GC-ITO

ITO透明導電膜具有良好的導電性與可見光穿透率，可作為透明電極應用於多種領域，例如光電偵測器、顯示器、太陽能電池、觸控模組、抗靜電、電磁波防護等等，冠晶具有多種ITO 製程條件，能夠在廣泛的製程溫度(RT~400℃)下製備高品質的ITO 薄膜，並應用薄(≧0.3mm)與大尺寸基板(≦12”)，或是不耐高溫的軟性基板。

產品可以直接整合於光學鏡頭組裝/半導體封裝生產線，如WLP (Wafer level package)。

可與圖案化、切割製程或其他功能膜結合，如抗反射膜(GC-BBAR)、濾光膜(Filter)、黑膜(Black Matrix)等，更佳地提高元件性能。

可客製化進行IMITO(Index matching ITO)規劃，在達到電性前提下大幅改善穿透率，提高產品光學特性。