- 首頁
- 製造服務
- 代工設計生產(ODM)
- 抗反射膜
抗反射膜
因應抗反射膜的多樣性,冠晶可提供客製化產品,使用反為包含紫外光-可見光-紅外光,除了基礎的光學特性如反射率、廣角、廣波域之外,特殊需求如表面硬度、抗化學腐蝕或更薄的基板厚度(>=0.1mm)都可提出。
產品可以直接整合於光學鏡頭組裝/半導體封裝生產線,如WLP (Wafer level package)。現有客戶多用於光學鏡頭與CIS感測器等元件,應用於手機、車用、安控、AR/VR等領域。
可提供晶圓級光學鍍膜 : 半導體成熟製程等級的產品表面品質,並強化抗化學清洗能力。
可搭配圖案化製程,並與黑膜等產品搭配,更進一步的降低雜散光,提高元件性能。
冠晶透過自有的光學設計與製造平台可以快速地為各種應用提供客製化生產,只需要提出目標規格或需求,即可快速的模擬、試樣並根據客戶反饋修改,量產階段則以嚴格的品質管理系統保障客戶權益。
冠晶專注於光學設計與鍍膜代工,開發過程重視客戶機密,且自身不涉及與客戶競爭之終端元件產品。
產品規格:客製化需求流程
外觀與可靠度規格

使用波段範圍 | VIS / UV-VIS-NIR | 表面品質 | 10/5 (MIL-PRF-13830B) or Semi level |
---|---|---|---|
應用領域 | CIS, Lens, AR/VR, 車用 | 邊緣無效區 | ≦2mm |
基板材質 | Glass, Si or else | 翹曲 | <1mm |
基板範圍(圓形) | ≦Φ300mm | 附著性(百格試驗) | Pass ISO Class#0 & ASTM Class#5B |
基板範圍(方形) | ≦350*350 mm | 硬度 | JISK5600,Pencil: >=9H,Weight: 750g |
基板厚度範圍 | >0.1 mm | 可靠度測試 | 85℃ 85% : ≧1000 / 1500 hr |
