透明導電膜-ITO

ITO透明導電膜具有良好的導電性與可見光穿透率，可作為透明電極應用於多種領域，例如光電偵測器、顯示器、太陽能電池、觸控模組、抗靜電、電磁波防護等等，冠晶具有多種ITO 製程條件，能夠在廣泛的製程溫度(RT~400℃)下製備高品質的ITO 薄膜，並應用薄(≧0.3mm)與大尺寸基板(≦12”)，或是不耐高溫的軟性基板。

產品可以直接整合於光學鏡頭組裝/半導體封裝生產線，如WLP (Wafer level package)。

可與圖案化、切割製程或其他功能膜結合，如抗反射膜(GC-BBAR)、濾光膜(Filter)、黑膜(Black Matrix)等，更佳地提高元件性能。

可客製化進行IMITO(Index matching ITO)規劃，在達到電性前提下大幅改善穿透率，提高產品光學特性。

可提供晶圓級光學鍍膜 : 半導體成熟製程等級的產品表面品質，並強化抗化學清洗能力。

冠晶透過自有的光學設計與製造平台可以快速地為各種應用提供客製化生產，只需要提出目標規格或需求，即可快速的模擬、試樣並根據客戶反饋修改，量產階段則以嚴格的品質管理系統保障客戶權益。

冠晶專注於光學設計與鍍膜代工，開發過程重視客戶機密，且自身不涉及與客戶競爭之終端元件產品。