PARMS
Plasma Assisted Reactive Magnetron SputteringPARMS 系統透過高速迴轉機制與獨立的高反應性離子源,將濺鍍與氧化反應分開進行, 改善傳統 MF 雙靶反應性濺鍍常見的Arc 與靶材毒化等問題,達到更高品質的多層光學薄膜。


相比於IBAD 或IBS 系統,PARMS 系統不論在系統穩定性、產能或生產成本上都上更有優勢。


IBAD: Ion Beam Assisted Deposition,
IBS: Ion Beam Sputtering,
PARMS: Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering
IBS: Ion Beam Sputtering,
PARMS: Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering